technolutions

Aplikacje

Parametry optyczne i wady układu optycznego

Automatyczne badania dynamicznej topografii powierzchni

Atomfab: wysokowydajne rozwiązanie ALD do zastosowań w mikroelektronice

Zastosowanie elektroprzędzenia w inżynierii tkankowej

Wydłużenie żywotności materiałów dzięki powłokom ALD

Spektralna Elipsometria Odniesienia

Nowa technologia trawienia grafenu

Przestrzenne ALD wielkopowierzchniowe

Wzrost MoS2 i związane z nim dichalkogenki metali przejściowych 2D

Porównanie metod badania grafenu oraz tlenku grafenu

ALD- Atomic Layer Etching (ALE)

Co naprawdę oznacza powiększenie 30 000:1?

Procesy wytwarzania materiałów do zastosowań biomedycznych

ALD- technologia dla baterii litowo- jonowych

Badania materiałów kostnych

Usprawnienie technologii oczyszczania wody

Powłoki ALD dla micro i nanocząstek

Poprawa efektywności ogniw słonecznych CIGS poprzez warstwę ZnS (naniesioną ALD)

Nowo opracowany proces trawienia węgliku krzemu (SiC) dla produkcji urządzeń radiowych

Przemysłowa pasywacja powierzchni ogniw słonecznych c-Si

Przemysłowa pasywacja powierzchni ogniw słonecznych c-Si

Jednorodne powłoki aktywne ogniw słonecznych

Technolutions sp. z o. o.

Otolice 38

99-400 Łowicz

 

 

tel.: +48 606 440 718

e-mail: kontakt@technolutions.pl

Technolutions 2020 © wszelkie prawa zastrzeżone