Moorfield – doskonałość w produkcji urządzeń próżniowych od 1989 roku.
Firma Moorfield Nanotechnology powstała w 1989 roku, ukierunkowując swoją działalność na tworzenie wysokiej klasy aparatury próżniowej PVD. Pierwotnie urządzenia brytyjskiego producenta trafiały głównie do jednostek akademickich i instytucji naukowych. Wraz z rozwojem przemysłu coraz częściej można je spotkać w powstających laboratoriach badawczo-rozwojowych nowoczesnych przedsiębiorstw na całym świecie.
Wszystkie spośród dostępnych na rynku rozwiązań firmy Moorfield zostały stworzone w oparciu o najwyższej jakości podzespoły próżniowe i elektroniczne. Każdy system jest w pełni modułowy, w łatwy sposób up-grade-owalny i wysoce elastyczny w konfigurowaniu i późniejszym użytkowaniu. Na kompletne urządzenie składa się platforma bazowa, która następnie jest uzupełniania o szereg komponentów procesowych i pomiarowych.
Wykorzystywane przez Moorfielda techniki depozycji to:
- Sputtering magnetronowy (DC, pulse DC, RF)
- Ewaporacja termiczna metali
- Ewaporacja termiczna materiałów organicznych (tzw. LTE)
- Ewaporacja z użyciem wiązki elektronowej (E-BEAM)
Aparatura jest wyposażona w pełni zautomatyzowane systemy próżniowe o bardzo wysokiej wydajności, najwyższej klasy kontrolery PLC, szyte na miarę oprogramowanie oraz prosty i intuicyjny interfejs użytkownika. Ponadto każdy z systemów Moorfielda jest rozwiązaniem certyfikowanym i kompatybilnym z pomieszczeniami czystymi typu clean-room.
Na początku XXI wieku Moorfield skoncentrował badawczą część swojej działalności na rozwoju technik chemicznego osadzania z fazy gazowej (CVD). Owocem prac było stworzenie urządzenia pozwalającego na łatwe wytwarzanie nanostruktur węglowych jak grafen i nanorurki węglowe (CNT). Sukces firmy odbił się szerokim echem w świecie naukowym a sama technika i jej wykorzystanie w takim ujęciu zdobyły szerokie zainteresowanie wśród naukowców i inżynierów, co poskutkowało wprowadzeniem na rynek nowej gamy urządzeń – nanoCVD.
Moorfield Nanotechnology to również prężnie działający od 1997 roku departament Clean Environments. Dział ten zajmuje się opracowywaniem oraz produkcją modułowych i przenośnych pomieszczeń czystych oraz systemów szybkiego i taniego filtrowania HEPA.
Urządzenia
- nano-PVD-S10A urządzenie dedykowane do wytwarzania powłok przy użyciu jednej z najpopularniejszych technik PVD (ang. Physical Vapour Deposition)- sputteringu magnetronowego
- nanoPVD-S10A-WA jest starszym bratem systemy nanoPVD-S10A dedykowanym do dużo większych podłóż
- nano-PVD-T15A jest urządzeniem dedykowanym do wytwarzania powłok przy użyciu ewaporacji termicznej
- nanoETCH jest urządzeniem dedykowanym do delikatnego trawienia materiałów 2D, jak np. grafen lub dichalkogenki metali, z bardzo wysoką precyzją procesu
- nano-CVD-8G jest urządzeniem dedykowanym do wytwarzania powłok grafenowych oraz prowadzenia procesów wzrostu nanorurek węglowych z wykorzystaniem techniki CVD (ang. Chemical Vapour Deposition) lub PECVD (ang. Plasma Enhanced Physical Vapour Deposition) z dołączonym modułem plazmowym oraz zasilaniem typu RF
- Systemy: MiniLab-080, MiniLab-060 oraz MiniLab-026 są modułowymi urządzeniami z obszerną komorą procesową dedykowaną do wytwarzania powłok przy użyciu technik PVD (ang. Physical Vapour Deposition), zarówno wykorzystując sputtering magnetronowy, ewaporacje termiczną w szerokim zakresie temperatur jak i ewaporację z użyciem wiązki elektronów e-beam.