Moorfield – doskonałość w produkcji urządzeń próżniowych od 1989 roku.

Moorfield stworzony został w celu tworzenia urządzeń technologii próżniowej głównie na potrzeby badań akademickich, jednak urządzenia można wykorzystać również w laboratoriach badawczo-rozwojowych. W ostatnich latach firma skupia się na dostarczaniu produktów wytwarzanych pod swoją nazwą i we własnej fabryce, nie zapominając jak ważna jest komunikacja z użytkownikami, jak również potencjalnymi osobami zainteresowanymi.

Asortyment urządzeń do osadzania próżniowego jest ukierunkowany na skalę pilotażową przemysłu, oraz dla instytucji edukacyjnych. Projekty urządzeń opierają się na modułowości, co prowadzi do elastycznych rozwiązań idealnych dla środowisk R&D, w przypadku których często występują zmieniające się wymagania techniczne. Gama urządzeń składa się z platform startowych, które następnie mogą być wypełnione licznymi zestawami komponentów do osadzania metali, substancji nieorganicznych i organicznych. Systemy mogą być budowane jako samodzielne jednostki lub mogą być łączone z innymi elementami, np. gdy problemem jest wrażliwość na powietrze.

Niedawno Moorfield skierował swoje prace rozwojowe w kierunku systemów chemicznego osadzania z fazy gazowej (CVD), które pozwalają na łatwe wytwarzanie grafenu i nanorurek węglowych (CNT). Wydarzenia te przyciągnęły finansowanie rządowe i zostały wsparte konsultacjami z ekspertami naukowymi. Systemy te są zdolne do skalowalnej, opłacalnej syntezy wysokiej jakości materiałów poprzez wdrażanie programów wzrostu uznanych za kluczowe dla przyszłej komercjalizacji nanomateriałów węglowych.

Moorfield utworzył dział Clean Environments w 1997 roku, po tym, jak nie znalazł przenośnego, czystego miejsca, w którym można by się podpisać za systemy osadzania. Zespół Clean Environments opracował od tego czasu szereg produktów do szybkiego i taniego filtrowania HEPA do tworzenia przenośnych i trwałych pomieszczeń w cleanroomie.

 

Urządzenia

  • nano-PVD-S10A urządzenie dedykowane do wytwarzania powłok przy użyciu jednej z najpopularniejszych technik PVD (ang. Physical Vapour Deposition)- sputteringu magnetronowego
  • nanoPVD-S10A-WA jest starszym bratem systemy nanoPVD-S10A dedykowanym do dużo większych podłóż
  • nano-PVD-T15A jest urządzeniem dedykowanym do wytwarzania powłok przy użyciu ewaporacji termicznej
  • nanoETCH jest urządzeniem dedykowanym do delikatnego trawienia materiałów 2D, jak np. grafen lub dichalkogenki metali, z bardzo wysoką precyzją procesu
  • nano-CVD-8G jest urządzeniem dedykowanym do wytwarzania powłok grafenowych oraz prowadzenia procesów wzrostu nanorurek węglowych z wykorzystaniem techniki CVD (ang. Chemical Vapour Deposition) lub PECVD (ang. Plasma Enhanced Physical Vapour Deposition) z dołączonym modułem plazmowym oraz zasilaniem typu RF
  • Systemy: MiniLab-080, MiniLab-060 oraz MiniLab-026 są modułowymi urządzeniami z obszerną komorą procesową dedykowaną do wytwarzania powłok przy użyciu technik PVD (ang. Physical Vapour Deposition), zarówno wykorzystując sputtering magnetronowy, ewaporacje termiczną w szerokim zakresie temperatur jak i ewaporację z użyciem wiązki elektronów e-beam.