Moorfield Nanotechnology
Physical Vapour Deposition (PVD)

Firma Moorfield Nanotechnology powstała w 1989 roku, ukierunkowując swoją działalność na tworzenie wysokiej klasy aparatury próżniowej PVD. Pierwotnie urządzenia brytyjskiego producenta trafiały głównie do jednostek akademickich i instytucji naukowych. Wraz z rozwojem przemysłu coraz częściej można je spotkać w powstających laboratoriach badawczo-rozwojowych nowoczesnych przedsiębiorstw na całym świecie.
Wszystkie spośród dostępnych na rynku rozwiązań firmy Moorfield zostały stworzone w oparciu o najwyższej jakości podzespoły próżniowe i elektroniczne. Każdy system jest w pełni modułowy, w łatwy sposób up-grade-owalny i wysoce elastyczny w konfigurowaniu i późniejszym użytkowaniu. Na kompletne urządzenie składa się platforma bazowa, która następnie jest uzupełniania o szereg komponentów procesowych i pomiarowych.
Wykorzystywane przez Moorfielda techniki depozycji to:
Aparatura jest wyposażona w pełni zautomatyzowane systemy próżniowe o bardzo wysokiej wydajności, najwyższej klasy kontrolery PLC, szyte na miarę oprogramowanie oraz prosty i intuicyjny interfejs użytkownika. Ponadto każdy z systemów Moorfielda jest rozwiązaniem certyfikowanym i kompatybilnym z pomieszczeniami czystymi typu clean-room.
Na początku XXI wieku Moorfield skoncentrował badawczą część swojej działalności na rozwoju technik chemicznego osadzania z fazy gazowej (CVD). Owocem prac było stworzenie urządzenia pozwalającego na łatwe wytwarzanie nanostruktur węglowych jak grafen i nanorurki węglowe (CNT). Sukces firmy odbił się szerokim echem w świecie naukowym a sama technika i jej wykorzystanie w takim ujęciu zdobyły szerokie zainteresowanie wśród naukowców i inżynierów, co poskutkowało wprowadzeniem na rynek nowej gamy urządzeń – nanoCVD.
Moorfield Nanotechnology to również prężnie działający od 1997 roku departament Clean Environments. Dział ten zajmuje się opracowywaniem oraz produkcją modułowych i przenośnych pomieszczeń czystych oraz systemów szybkiego i taniego filtrowania HEPA.