Oxford Instruments

Atomic Layer Etching (ALE)

Atomic Layer Etching (ALE)

ALE (ang. Atomic Layer Etching) jest techniką usuwania cienkich warstw materiału, za pomocą kolejnych, samokontrolujących się reakcji. Trawienie warstw atomowych za pomocą plazmy to cykliczny proces trawienia polegający na dozowaniu gazu i bombardowaniu jonowym, który usuwa materiał warstwa po warstwie i ma potencjał usuwania pojedynczych warstw atomowych o bardzo niskim stopniu uszkodzenia.

Ze względu na zapotrzebowanie na tego typu metodę naukowcy przez ponad 25 lat pracowali nad jej ostatecznym dopracowaniem. Finalnie procesy ALE zostały określone i zoptymalizowane przez specjalistów aplikacyjnych firmy Oxford Instruments w połowie 2016 roku. Poskutkowało to natychmiastowym wprowadzeniem technologii na rynek aparaturowy. Obecnie ALE zaczyna cieszyć się coraz większą popularnością w Europie Zachodniej i Ameryce.

Jest doskonałą alternatywą dla ciągłego trawienia. Gwarantuje dokładność wytrawiania na poziomie atomowym, podobnie jak ALD (z ang. Atomaic Layer Deposition) w przypadku procesów osadzania.

Zalety ALE
  • ALE znajduje zastosowanie w trawieniu ultra cienkich warstw (sub nano / nano)
  • Konwencjonalne suche trawienie wymaga ciągłej amorfizacji kilku warstw atomowych i reakcji chemicznych w tych warstwach
  • ALE umożliwia wysoce selektywne, oraz praktycznie „nieniszczące” trawienie (wysoka selektywność i jednorodność powierzchni po trawieniu)
Si ALE

si-ale

Trawienie krzemu wykorzystuje dwa niezależne, samokontrolujące się etapy procesu:

  • wystawienie powierzchni Si na działanie niewielkiej kontrolowanej dawki Cl2
  • usuwanie tylko SiClx z powierzchni poprzez bombardowanie jonami o niskiej energii

si-ale3

ALE

PlasmaPro 100 ALE

Potrzebujesz informacji?

Zostaw swój kontakt, odezwiemy się
PlasmaPro 100 ALE

W miarę jak warstwy stają się cieńsze, aby umożliwić zastosowanie urządzeń półprzewodnikowych nowej generacji, istnieje potrzeba coraz bardziej precyzyjnej kontroli procesu w celu tworzenia i manipulowania tymi warstwami.

PlasmaPro 100 ALE zapewnia to za pośrednictwem specjalistycznego osprzętu, w tym:

  • Precyzyjna kontrola dawki gazu,
  • Doskonała powtarzalność dostarczania RF o niskiej mocy,
  • Możliwość szybkiego przełączania za pomocą sterownika PLC.

Wszystko to razem umożliwia wytrawianie z dokładnością mieszczącą się w skali atomowej.

Aplikacje

W budowie

Technolutions sp. z o. o.

Otolice 38

99-400 Łowicz

 

 

tel.: +48 606 440 718

e-mail: kontakt@technolutions.pl

Technolutions 2020 © wszelkie prawa zastrzeżone

Zapraszamy na darmowe webinaria