Moorfield Nanotechnology

nanoPVD-S10A -WA

System nano-System nano-PVD-S10A jest urządzeniem dedykowanym do wytwarzania powłok przy użyciu jednej z najpopularniejszych technik PVD (ang. Physical Vapour Deposition), mianowicie sputteringu magnetronowego. Instrument produkuje powłoki zarówno z metali (z wykorzystaniem zasilania typu DC) oraz ich związków jak tlenki, azotki, tellurki, siarczki itp. (zasilanie typu RF). nanoPVD-S10A-WA jest starszym bratem systemy nanoPVD-S10A dedykowanym do dużo większych podłóż.PVD-S10A jest urządzeniem dedykowanym do wytwarzania powłok przy użyciu jednej z najpopularniejszych technik PVD (ang. Physical Vapour Deposition), mianowicie sputteringu magnetronowego. Instrument produkuje powłoki zarówno z metali (z wykorzystaniem zasilania typu DC) oraz ich związków jak tlenki, azotki, tellurki, siarczki itp. (zasilanie typu RF).

Opis urządzenia

System współpracuje z klasycznymi przemysłowymi targetami oraz podłożami do 8”. Posiada możliwość współpracy z 2 źródłami do sputteringu oraz obrotowym stolikiem na preparaty z opcją grzania. Proces odbywa się w położeniu sputter-up – stolik umieszczony w górnej części komory, która dodatkowo jest wyposażona w wewnętrzne osłony zapobiegające zanieczyszczeniom oraz przysłony źródeł i preparatów różnej wielkości. Elektronika urządzenia jest oparta o kontroler PLC, a użytkownik komunikuje się z systemem poprzez dotykowy panel sterujący lub komputer PC. Układ próżniowy bazuje na wysokiej jakości systemach firmy Edwards – pompie próżni wstępnej (olejowej bądź suchej) oraz pompie turbomolekularnej – zapewniających pracę w ultra-wysokiej próżni rzędu . System ponadto może być wyposażony w szereg opcji dodatkowych w postaci modułów monitorowania wzrostu powłoki, wysokiej dokładności kontroli ciśnienia, układów szybkiego odpompowywania itp. Urządzenie jest kompatybilne z pomieszczeniami typu clean-room.

Parametry systemu
– system kompaktowy typu benchtop– co-sputtering
– do 2 źródeł sputteringu magnetronowego– monitorowania wzrostu powłoki
– do 3 gazów procesowych– automatyczne sterowanie ciśnieniem
– zasilanie DC i/lub RF– ciśnienie bazowe < .
– wielkość preparatów do 8”– definiowana baza procesów
– możliwość podgrzewania podłoża do 500°C– urządzenie kompatybilne z cleanroom
– możliwość obracania podłoża

Potrzebujesz informacji?

Zostaw swój kontakt, odezwiemy się

Technolutions sp. z o. o.

Otolice 38

99-400 Łowicz

 

 

tel.: +48 606 440 718

e-mail: kontakt@technolutions.pl

Technolutions 2020 © wszelkie prawa zastrzeżone

badanie przyczepności powłok

Wyjątkowa oferta na zakup mikroskopu