Przestrzenne ALD wielkopowierzchniowe

Przełomowa odmiana ALD

W listopadzie ubiegłego roku, BENEQ przekazał pierwsze informacje na temat naszego nowego przestrzennego ALD, który pracuje nanosi powłok na ruchome podłoże. Obiecano nam kolejne porcje informacji dotyczących projektu szybkiego ALD, oto i one…

Większe podłoże

Po pierwsze porozmawiajmy o wielkości podłoża.

Aby dać Wam wyobrażenie, co oznacza ALD dla dużych powierzchni, wykonaliśmy zdjęcia na pilotażowym systemie produkcyjnym. Na zdjęciu obok widać członków zespołu BENEQ, którzy trzymają podłoże służące do testów w reaktorze ALD. Wymiary „próbki” to 1,5m x 0,6m z efektywną powierzchnią powłoki 0,4m x 0,5m. To jest to co naywamy DUŻYM PRZESTRZENNYM ALD w BENEQ.

Szybciej

Drugą kwestia to szybkość procesu osadzania się warstw.

Niski koszt eksploatacji jest niezbędny w przypadku osadzania warstw atomowych dla zastosowań przemysłowych . Jedną z głównych przeszkód, które utrudniały dotychczas stosowanie pulsowego ALD w przemyśle, było spowolnienie procesu powlekania dużych powierzchni

Z technologią ALD w Ruchu ™, możliwości produkcyjne zaspokajają potrzeby następnej dekady. Czas osadzania powłok na podłożach o dużej powierzchni, takich jak ten na zdjęciu powyżej jest liczony w dziesiątkach sekund do kilku minut. Wynik kombinacji krótkiego czasu procesu i niskiego zużycia prekursorów sprawił, że technologia atomic layer deposition znajduje się w zasięgu wielu możliwych aplikacji (niekoniecznie tych niszowych).

Większa elastyczność

Po trzecie, przemysłowe ALD daje olbrzymią elastyczność procesu.

Nasz sprzęt pilotażowy został już przetestowany z najczęstszymi strukturami chemicznymi, takimi jak TMA, TiCl4, DEZ, H2O i H2S, z wyśmienitymi wynikami. Powyższe materiały potwierdzają słuszność koncepcji i ukazują, że zaprojektowany system jest w pełni funkcjonującym, szybkim i przemysłowym ALD.

Zdolność do powlekania różnych rodzajów i wielkości substratów zwiększa również elastyczność nowej maszyny. Zmieniając adaptery podłoża, można pracować z podłożami szklanymi (na przykład 100 mm x 100 mm, 200 mm x 200 mm i 400 mm x 500 mm) i waflami (4 ” oraz 6 ”, okrągłe lub kwadratowe, oraz 8 „). Im mniejsza jest wielkość podłoże, tym więcej sztuk możemy przetworzyć w jednym procesie. Dla przykładu osadzenie 5nm powłoki Al2O3 na ośmiu waflach 6″ trwa zaledwie 10 sekund! co dla warstwy 100nm daje czas nieco ponad 2 minuty. Warto zauważyć, że dopiero rozpędzamy reaktor Spatial ALD!…

Gotowy do nowych zastosowań ALD!

Możliwość przetwarzania dużych podłoży, które poruszają się daje fundamenty dla całkowicie nowych zastosowań cienkich powłok. Obecnie prowadzimy kilka naprawdę ciekawych dyskusji na temat korzystania z nowego sprzętu w miejscach, gdzie ALD nigdy nie były używane wcześniej, jesteśmy również otwarci na kolejne pomysły nowych klientów z różnych branż.

Selektywność.

Kolejną niebywałą korzyścią jest możliwość naniesienia powłok na części podłoża oraz nanoszenie powłok po jednej stronie podłoża bez efektu zwanego wrap-around!