nanoPVD-T15A

System nano-PVD-T15A jest urządzeniem dedykowanym do wytwarzania powłok przy użyciu jednej z technik PVD (ang. Physical Vapour Deposition), mianowicie ewaporacji termicznej. Instrument produkuje powłoki zarówno z metali jak i materiałów organicznych w trybie niskotemperaturowym, korzystając z dedykowanych źródeł typu LTE (ang. Low Thermal Evaporation) .

System współpracuje z źródłami typu „box” (materiał rozpylany z łódeczek, koszyków lub drutów), zabezpieczającymi przed nadmierną kontaminacją komory procesowej oraz podłożami do 4”. Pomimo swoich kompaktowych rozmiarów posiada możliwość współpracy z 2 źródłami do ewaporacji metali lub 4 źródłami do ewaporacji materiałów o niskiej temperaturze topnienia (materiały organiczne). Istnieje również możliwość skonfigurowania systemu z dwoma różnymi rodzajami źródeł w jednej komorze ( 2 + 2 ), gdyż procesy są w pełni kompatybilne.  Urządzenie jest wyposażone w zmotoryzowanym stolik na preparaty z możliwością obrotu, podgrzewania oraz regulacji wysokości. Komora jest dodatkowo wyposażona w wewnętrzne osłony zapobiegające zanieczyszczeniom oraz przysłony źródeł i preparatów różnej wielkości. Elektronika urządzenia jest oparta o kontroler PLC, a użytkownik komunikuje się z systemem poprzez dotykowy panel sterujący lub komputer PC. Układ próżniowy bazuje na wysokiej jakości systemach firmy Edwards – pompie próżni wstępnej (olejowej bądź suchej) oraz pompie turbomolekularnej – zapewniających pracę w ultra-wysokiej próżni rzędu . System ponadto może być wyposażony w  szereg opcji dodatkowych w postaci modułów monitorowania wzrostu powłoki, wysokiej dokładności kontroli ciśnienia, układów szybkiego odpompowywania itp. Urządzenie jest kompatybilne z pomieszczeniami typu clean-room.