nanoPVD-S10A

System nano-PVD-S10A jest urządzeniem dedykowanym do wytwarzania powłok przy użyciu jednej z najpopularniejszych technik PVD (ang. Physical Vapour Deposition), mianowicie sputteringu magnetronowego. Instrument produkuje powłoki zarówno z metali (z wykorzystaniem zasilania typu DC) oraz ich związków jak tlenki, azotki, tellurki, siarczki itp. (zasilanie typu RF).

System współpracuje z klasycznymi przemysłowymi targetami oraz podłożami do 4” (większe podłoża dostępne w opcji WA). Pomimo swoich kompaktowych rozmiarów posiada możliwość współpracy z 3 źródłami do sputteringu oraz w pełni zmotoryzowanym stolikiem na preparaty z możliwością obrotu, podgrzewania oraz regulacji wysokości. Proces odbywa się w położeniu sputter-up – stolik umieszczony w górnej części komory, która dodatkowo jest wyposażona w wewnętrzne osłony zapobiegające zanieczyszczeniom oraz przysłony źródeł i preparatów różnej wielkości. Elektronika urządzenia jest oparta o kontroler PLC, a użytkownik komunikuje się z systemem poprzez dotykowy panel sterujący lub komputer PC. Układ próżniowy bazuje na wysokiej jakości systemach firmy Edwards – pompie próżni wstępnej (olejowej bądź suchej) oraz pompie turbomolekularnej – zapewniających pracę w ultra-wysokiej próżni rzędu 5 x 10-7 mbar. System ponadto może być wyposażony w szereg opcji dodatkowych w postaci modułów monitorowania wzrostu powłoki, wysokiej dokładności kontroli ciśnienia, układów szybkiego odpompowywania itp. Urządzenie jest kompatybilne z pomieszczeniami typu clean-room.