NanoCVD-8G

System nano-CVD-8G jest urządzeniem dedykowanym do wytwarzania powłok grafenowych oraz prowadzenia procesów wzrostu nanorurek węglowych z wykorzystaniem techniki CVD (ang. Chemical Vapour Deposition) lub PECVD (ang. Plasma Enhanced Physical Vapour Deposition) z dołączonym modułem plazmowym oraz zasilaniem typu RF.

System jest wyposażony w stolik na preparaty o wielkości 20mm x 40mm. Proces odbywa się w temperaturze około 1100°C, z dokładnością jej zadawania do 1°C. Ściany komory procesowej są chłodzone wodą ze względów bezpieczeństwa. Układ dynamicznej zmiany temperatury pozwala na wykonanie całkowitego procesu w czasie poniżej 30min, co ma znaczny wpływ na zredukowanie konsumpcji mediów w postaci energii elektrycznej i gazów procesowych ( Kontrola ciśnienia wewnątrz komory odbywa się przy użyciu manometrów pojemnościowych a układ próżniowy bazuje na pompie rotacyjnej lub pompie typu scroll. Poprawność działania procesu została wielokrotnie potwierdzona przez liczne jednostki badawcze z wykorzystaniem różnorodnych technik jak spektroskopia Ramana, mikroskopia elektronowa itp.

Elektronika systemu jest oparta o kontroler typu PLC. Użytkownik jest w stanie definiować, przechowywać oraz wykorzystywać ponownie szereg różnorodnych procesów. Sterowanie odbywa się przy użyciu dotykowego panelu lub zdalnie z poziomu PC i dedykowanego oprogramowania NanoConnect.