Beneq jest wiodącym producentem aparatury do wytwarzania powłok metodą osadzania warstw atomowych ALD (ang. Atomic Layer Deposition) oraz usług produkcji cienkich filmów z wykorzystaniem tejże techniki.

ALD jest metodą chemiczną, podobną do CVD, bazująca jednak na reakcji chemisorpcji i naprzemiennym podawaniu prekursorów (substancji chemicznych), z których tworzymy pożądaną powłokę. Natura procesu powoduje, iż filmy wytworzone z użyciem techniki są ekstremalnie cienkie, pozbawione jakichkolwiek ubytków oraz idealnie jednorodne. Powłoki wytworzone z użyciem ALD pozwalają nie tylko na wydłużenie czasu życia produktu ale również na szersze wykorzystanie jego możliwości bądź użycie niemożliwych dotychczas materiałów.

Gdyby pokryć całe boisko do piłki nożnej warstwą barierową opatentowaną przez firmę BENEQ, zaledwie jedna kropla przedostałaby się przez powłokę ochronną w ciągu całej doby.

(Water Vapour Transmission Rate < g/) – tak niski współczynnik czyni barierową powłokę ALD miliard razy szczelniejszą od typowych rozwiązań dostępnych na rynku.

Przykłady zastosowań obejmują enkapsulację elastycznej elektroniki, pasywację powierzchniową ogniw słonecznych, ogniwa fotowoltaiczne trzeciej generacji, bariery wilgoci w urządzeniach rentgenowskich, przeciwzużyciową ochronę biżuterii, ultra szczelne opakowania, komponenty optyczne, powłoki biokompatybilne na implanty i wiele innych. 

Beneq spośród wszystkich dostawców systemów ALD na całym świecie może pochwalić się największą ilością zainstalowanych urządzeń przemysłowych. Położona w Helsinkach siedziba firmy jest obecnie największym zakładem produkcyjnym zarówno systemów ALD jak i samych powłok. (kilkadziesiąt reaktorów przemysłowych pracujących 24h/7). Dodatkowym atutem producenta jest  bogaty w kilkunastoletnie doświadczenie zespół specjalistów procesowych i konstruktorów najnowocześniejszych urządzeń. W portfolio firmy znajdują się urządzenia zarówno laboratoryjne, pół-przemysłowe jak i duże rozwiązania produkcyjne.