Nowa technologia trawienia grafenu

Technologia miękkiego trawienia grafenu opracowana przez Moorfield Nanotechnology pozwala na kontrolowane usuwanie grafenu i materiałów 2D bez konieczności sieciowania fotorezystów, co zmniejsza prawdopodobieństwos powstawania resztkowych zanieczyszczeń.

Technologia ta wykorzystuje plazmę o niskiej mocy (<10 W) z możliwością jej dokładnej kontroli (do 10 mW). Umożliwia to usuwanie materiału z bardzo wysoką precyzją. Poniżej zaprezentowano zastosowanie technologii miękkiego trawienia za pomocą urządzenia Moorfield nanoETCH.

System nanoETCH firmy Moorfield

Fotolitografia i miękkie trawienie:

1. Grafen hodowany metodą CVD (ciemniejszy kontrast) z zastosowaniem urządzenia nanoCVD-8G osadzony został na podłożu Si/SiO2. Na grafenie powstaje fotorezystowy wzór słupka Halla (żółty).

2. Fotorezyst jest usuwany, pozostawiając chroniony grafen. Co ważne, powierzchnia grafenu jest czysta bez pozostałości fotorezystu.

3. System nanoETCH służy do wystawienia próbki na precyzyjne działanie miękkiego wytrawiania. Zdjęcie pokazuje próbkę po usunięciu grafenu (brak kontrastu na powierzchni Si/SiO2).

4. Dalsza fotolitografia służy do zdefiniowania pól kontaktowych i odprowadzeń do analizy próbki.

Materiały wytworzone przy użyciu Moorfield nanoETCH wykazały wysoką ruchliwość elektronów w temperaturze pokojowej i nieznaczne domieszkowanie. Częściowo jest to możliwe dzięki zastosowanemu procesowi trawienia, który pozwala na całkowite usunięcie niechcianego grafenu, pozostawiając nieznaczne pozostałości na powierzchnimateriału.

Przewiń do góry

Zapraszamy na darmowe webinaria