Nanoszenie powłok - Metalizacja i Sputtering PVD

Proces metalizacji polega na nanoszeniu warstwy metalu na powierzchnię przedmiotu, aby nadać mu cechy takie jak odporność na ścieranie i korozję. Dodatkowym efektem jest poprawa estetyki przedmiotu, który staje się gładki i, w zależności od preferencji, matowy lub błyszczący, dlatego metalizację stosuje się również w celach dekoracyjnych. Istnieje kilka technik nanoszenia warstwy metalu na przedmioty, popularnymi rodzajami procesu są metalizacja natryskowa, próżniowa, galwaniczna, ogniowa, kontaktowa i dyfuzyjna. Wybór właściwego rodzaju zależy od preferencji inwestora i materiału, który ma zostać poddany procesowi.

Technologia wytwarzania powłok w próżni, którą polecamy to Sputtering PVD, znajduje ona coraz szersze zastosowanie w różnych gałęziach przemysłu. Elastyczność tej techniki pozwala na pokrywanie szerokiej gamy materiałów, bez względu na ich rodzaj, kształt oraz wielkość. Rezultatem procesu są detale zarówno o zastosowaniu technicznym, jak i dekoracyjnym. Poza wysoką wytrzymałością oraz odpornością aplikowanych powłok, produkt przede wszystkim zyskuje walor estetyczny.

ISTOTNE ASPEKTY TECHNOLOGII

• środowiskowe: „czysty” proces prowadzony w temperaturze pokojowej, bez zużycia wody, brak odpadów i emisji szkodliwych substancji,
• estetyczne: metaliczny efekt, szeroka gama kolorów,
• funkcjonalne: wysoka twardość, odporność na zarysowania i środowisko korozyjne,
• produkcyjne: wyjątkowa ekonomiczność/ opłacalność cykli pracy.

Kolzer od ponad 65 lat zajmuje się produkcją urządzeń służących do nanoszenia w próżni metalicznych powłok. Firma posiada ugruntowaną pozycję lidera na rynku europejskim i światowym, czego dowodem jest ponad 1200 zainstalowanych systemów.

• metalizacja natryskowa i próżniowa,,
• sputtering,
• trawienie powierzchni przy użyciu plazmy,
• PECVD.

Wśród niewątpliwych korzyści wynikających z zastosowania technologii metalizacji i Sputtering PVD należy wymienić:

•  uniwersalność, która pozwala na zastosowanie procesu dla różnych materiałów podłoża,
• niską temperaturę procesu,
• szeroką gamę substratów (szczególnie w procesie Sputtering PVD),
• wysoką powtarzalność,
• możliwość wytwarzania powłok wielowarstwowych,
• możliwość dostosowania grubości powłoki,
• zachowanie właściwości plastycznych podłoża,
• wysokie walory estetyczne oraz właściwości użytkowe,
• dbałość o środowisko (proces nie emituje szkodliwych odpadów, a wytwory mogą być poddawane recyklingowi),
• krótszy czas procesu, w porównaniu z innymi metodami,
• redukcję przestrzeni produkcyjnej,
• zwiększenie możliwości projektowych elementów.