Powłoki ALD dla micro i nanocząstek

Osadzanie warstw atomowych (ALD) jest nie tylko jedynie narzędziem badawczym do powlekania podłoży porowatych, ale i dla cząstek staje się opłacalne, w przypadku przemysłowej produkcji narzędzi dla szeregu konkretnych produktów, w tym:

• heterogeniczne katalizatory,
• nanonapełniacze dla kompozytów polimerowych i wypełniacze termiczne dla elektroniki
• w litowych akumulatorach
• etc.

Beneq ALD znajduje się an czele tego rozwoju i jest w stanie obsłużyć swoich klientów w rosnącym dziale hi-tech.

Łącząc powłoki ochronne z podłożami porowatymi oraz cząstkami stwarza się zupełnie nowe możliwości modyfikacji, np. właściwości dyfuzji materiałów. ALD okazało się technika umożliwiającą powlekanie cząstek i jest już sprawdzone w następujących zastosowaniach:

• mocowanie micro i nanocząstek do podłoża
• stosowania barier dyfuzyjnych i korozyjnych dla powierzchni metali
• kontrolowania właściwości dyfuzyjnych na powierzchni cząsteczek
• pasywacji powierzchni
• dostosowanie składu materiałów porowatych
• domieszkowania porowatych materiałów sypkich

Ze względu na “oddolne” mechanizmy wzrostu warstw ALD, większość powłok jest naturalnie pinhole-fre