Beneq WCS 600 jest urządzeniem ALD (ang. Atomic Layer Deposition) o konstrukcji typu roll-to-roll, która pozwala na wytwarzanie powłok z precyzją nanometryczną przy jednoczesnym zachowaniu typowych przemysłowych wydajności procesu.

  • Możliwość wytwarzania powłok na materiałach elastycznych jak folie
  • Niska temperatura procesu (<80 °C) w przypadku delikatnych materiałów
  • Prędkość osadzania systemu jest wysoce skalowalna (do 20m/min)
  • Szerokość podłoży do 600mm
  • Grubość podłoży 20 – 300um