W naszej ofercie produktów Oxford Instruments znajdują się systemy do osadzania następującymi metodami:

Chemiczne osadzanie z fazy gazowej.

Chemiczne osadzanie z fazy gazowej, w skrócie CVD (z ang. Chemical Vapour Deposition) jest jedną z metod obróbki cieplno-chemicznej materiałów. Dzięki zastosowaniu tej techniki możemy nanosić cienkie powłoki na żądany materiał, ma to na celu zmianę lub zwiększenie danej właściwości danego materiału (chemicznych, fizycznych bądź mechanicznych). Metoda CVD stosowana jest głównie do domieszkowania półprzewodników.

CVD obejmuje reakcje chemiczne pomiędzy prekursorami w fazie gazowej doprowadzając do wzrostu na powierzchni makroskopowych filmów. Azotek krzemu jest zdeponowany jako film izolacyjny dzięki reakcji:

3SiH4 + 4 NH3 → Si3N4 + 12 H2

Dwutlenek krzemu osadza się za pomocą tetraetylortosilikonu (TEOS) w następującej reakcji:

Si(CH3CH2O)4 + 12 O2 → SIO2 + 8 CO2 + 10 H2O

albo z prekursora:

SIH4 + 2 O2 → SiO2 + 2 H2O

Zrozumienie mikroskopowych reakcji chemicznych, jest wymagane w celu poznania istotności faktu utrzymania optymalnej obróbki CVD. Niekontrolowane osadzanie lub czas inicjacji może prowadzić do złej jakości niejednorodnego filmu, które prowadzi do usterek urządzeń elektrycznych.

Poznanych jest kilka metod otrzymania powłok CVD, są to między innymi:

  • metaloorganiczna CVD (MOCVD)
  • CVD ze wspomaganiem plazmowym (PACVD)
  • CVD z użyciem lasera (LCVD)
  • oraz wiele innych.

Fizyczne osadzanie z fazy gazowej

Fizyczne osadzanie z fazy gazowej, w skrócie PVD (z ang. Physical Vapour Deposition) jest metodą przemysłowej obróbki powierzchni, która mogą być stosowana w szerokim zakresie m. in. do produkcji układów scalonych. Ten sposób osadzania substancji na półprzewodnikach jest przyjazny dla środowiska, możliwe jest osiągnięcie dzięki niemu warstwy materiału w skali nano (nano powłoki). Z tego powodu, PVD może być stosowane do zwiększenia m. in. twardości powierzchni lub też wydajności cieplnej materiału bez naruszenia jego pierwotnych wymiarów).

Dzięki zastosowaniu PVD możemy zwiększyć żywotność narzędzi produkcyjnych zmniejszając całkowite koszty produkcji.