SE-2000-01_500Elipsometr konwencjonalny SE-2000 jest unikalną modułową platformą optyczną dla elipsometrów spektroskopowych z obrotową optyką kompensatora.

Wykonuje bezstykowe i nieniszczących pomiary optyczne na podłożach jedno- lub wielowarstwowych próbek w celu uzyskania grubość warstwy oraz właściwości optycznych. System posiada modułowy i wszechstronny wygląd, aby odpowiedzieć na potrzeby od grubości prostych pojedynczych warstw do bardziej wymagających zastosowań, łączących polarymetrie, skaterometrie i elipsometrie korzystając z matrycy Mueller’a. Urządzenie posiada unikalny niezależny wybór kąta ramion goniometrów i mały rozmiar plamki. SE-2000 oferuje najszerszy zakres widma dostępnego na jednym narzędziu, począwszy od głębokiego UV (190 nm) do Mid-IR (25 mikrometrów) z opcjonalnym FTIR.

Może być skonfigurowany w trybie detekcji przy użyciu spektrografu i detektora diodowego, albo z dużą rozdzielczością przy użyciu spektrometru i detektora jednopunktowego, albo z obydwoma rodzajami połączonymi ze sobą w jednym urządzeniu.

SE-2000 zawiera nową inteligentną elektronikę Semilab wraz z wymiennymi komponentami, działa on z nową generacją oprogramowania (SAM / SEA). System może być sterowany z komputera PC lub laptopa za pośrednictwem sieci LAN lub przez nowy interfejs panelu dotykowego.

Tryby pomiaru:

  • Spektroskopowa elipsometria dla grubości warstwy, funkcji optycznych, w tym złożonych struktur wielowarstwowych
  • Uogólniona elipsometria dla materiałów anizotropowych
  • Elipsometria transmisji dla przezroczystych podłoży
  • Skaterometria w porównaniu z długością fali i kątem padania
  • Matryca Mueller’a (11 lub 16 elementowa) oferowana w połączeniu ze skaterometrią 3D dla materiałów anizotropowych
  • Matryca Jones’a dla prostych materiałów anizotropowych
  • Przepuszczalność i odbicie w porównaniu z kątem padania i długością fali
  • Polarymetria
  • Porozymetria: Pomiary wielkości porów i porowatości w cienkich warstwach
  • Tryb in-situ pomiaru rzeczywistej kontroli czasu podczas procesu osadzania lub wytrawiania

Zastosowania:

Fotonika:

  • LED, Optrics: AlGaN, GaN, InP, etc.
  • Odblaskowe powłoki, ARC, urządzenia III-V (EEL, VCSEL, ECL)
  • MEMS
  • Zol-żel/ porowate powłoki

Fotowoltaika:

  • Cienkie warstwy i krzemowe ogniwa słoneczne, ogniwa nanostrukturalne
  • Przezroczysty przewodzący tlenek, Nanokropki, nanodruty, CNT

Organiczne:

  • OLED
  • OPV
  • Czujnki
  • OTFT

Półprzewodniki:

  • High-k, tlenek azotu, Low-k
  • Interkonekty, litografia cienkich warstw
  • Epi-warstwy: SOI, SIGE, Napięte Si, SiC

Płaskie ekrany:

  • TFT-LCD
  • LTPS
  • IGZO
  • OLED
  • elektrochromowe warstwy

Ogólne:

  • Materiały ferroelektryczne (BST, SBT, PZT)
  • Ogniwa paliwowe, SOFC, porowate elektrody
  • Grafen
  • Materiały 3D, struktury okresowe