img_1230_modlr_200_uusi_c-copy_editkj

T2S™ jest najnowszym urządzeniem spośród systemów ALD Beneq-a, dedykowanym do produkcji powłok na płytkach krzemowych. Oferuje unikatowe połączenie wysokiej wydajności procesów wsadowych (partie wafli) z możliwością ich automatycznego ładowania przy użyciu odpowiednich kaset. Beneq T2S został zaprojektowany w sposób gwarantujący spełnienie nawet najbardziej restrykcyjnych wymagań związanych z półprzewodnikami; takich jak np. wymogi bezpieczeństwa SEMI S2.

T2S doskonale nadaje się do wielkoseryjnej produkcji w różnorodnych aplikacjach np. powłoki barierowe dla MEMS, LED, OLED, głowic drukujących ink-jet i wielu innych. Termiczne ALD wykonywane przez system T2S stanowi optymalne rozwiązanie dla wytwarzania powłok opartych o tlenki czy azotki, stanowiących następnie warstwy dielektryczne, barierowe i pasywacyjne.

Dane procesowe:

  • wafle o średnicy do 200mm
  • max 50 wafli na godzinę
  • opcje procesu face-down i face-up (sposób umieszczenia wafli)

W celu uzyskania większej ilości informacji, prosimy o kontakt.